美國 EUV 禁令雖封鎖先進曝光機,但中國 DRAM 微縮尚未達物理極限。長鑫存儲(CXMT)已量產 16 奈米並朝 15 奈米邁進,證明利用 DUV 搭配多重曝光仍有下探空間,且美光亦有不靠 EUV 達 13 奈米的先例。然而,2025 年美國禁令升級至 25 奈米並撤出技術人員,真正的挑戰在於設備維護與良率提升。中國雖試圖以架構創新彌補製程劣勢,但在成本與量產穩定性上,微縮之路面臨嚴峻的「經濟性極限」而非單純技術終點。